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北京工业大学微电子学与固体电子学硕导介绍-吕长志

  一、基本情况

  吕长志 研究员 中国电子学会高级会员。1974年毕业于北京工业大学无线电系半导体物理与器件专业并留校任教,1991年在北京工业大学在职研究生毕业。因本人在科研方面的突出成绩,于1998年获中华人民共和国国务院特殊津贴奖励。1996—2000年作为访问学者分别在美国伊利诺依大学(UIUC)和弗吉尼亚州立大学(VCU)从事氮化镓(GaN)基器件的研究,获得了当时世界领先的AlGaN/GaN MODFET(调制掺杂场效应晶体管)、GaN P-I-N 紫外光探测器科研成果,并发表了相应的论文。因本人在出国留学期间发表的高水平科研论文、在此期间取得的科研成果及所创造的经济效益,于2005年获第二届北京市留学人员创业奖。


  二、主要研究方向:

  AlGaN/GaN MODFET、GaN基紫外探测器等新型半导体器件的设计及制造;半导体器件、集成电路热阻的测试研究;电子元器件、集成电路可靠性及加速寿命试验的研究。

  三、在研课题:

  GaN/AlGaN HFET的结构材料生长和器件设计制造基础技术;GaN基紫外探测器研究;军用半导体分立器件加速寿命试验新方法的应用研究;电源模块可靠性快速评价技术的研究。

  四、科研成果

  1.获北京市、电子工业部科技进步奖7项,其中有“功率晶体管峰值结温非破坏性测量技术”“砷化镓场效应晶体管沟道温度精确测量技术”“税务数据自动化采集 和计算机读卡接收系统”等。

  2.获国家发明专利6项,实用新型专利4项。

  3.与他人合著《超大规模集成电路设计技术-从电路到芯片》、译著《半导体器件电子学》《低成本倒装芯片技术》。

  4.发表科研论文80多篇。

  四、联系方式:

  北京工业大学电子信息与控制工程学院邮编100022

   E-mail: chzhlu@bjut.edu.cn ,Tel: 67392125

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